利用ICP进行In掺杂对GaN基LED材料性能的影响

利用ICP进行In掺杂对GaN基LED材料性能的影响

作者:师大云端图书馆 时间:2015-07-17 分类:期刊论文 喜欢:2972
师大云端图书馆

【摘要】本文主要介绍一种新型的改善GaN材料p型欧姆接触特性的方法,即采用电子束蒸发技术在InGaN层上沉积一层ITO薄膜,然后通过感应耦合等离子体技术(ICP)对ITO进行轰击。通过XPS测试分析可知,ICP轰击ITO过程中,ITO中的In原子扩散至p-GaN层。通过在p-GaN上方制作欧姆接触并进行I-V测试,结果表明In掺杂后样品p型欧姆接触特性得到改善。
【作者】曾勇平;张保平;应磊莹;
【机构】厦门大学电子工程系;
【关键词】GaN;p型欧姆接触;ICP;XPS;

【参考文献】
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