【摘要】化学气相沉积(Chemialvapordeposition,CVD)是制备高纯高致密钨零件及涂层的重要工艺。通过介绍采用CVD方法制备的纯钨材料的工艺与技术特点,并从CVD-W材料特性、产品种类,相关应用方向等方面阐述了CVD技术在钨材料制造中的发展情况,介绍了CVD-W在国防军工、核能、医疗等行业领域的应用,总结了CVD-W制备技术和材料的国内外现状,并指出了未来国内CVD技术在钨及难熔 […]

【摘要】主要阐述了铼及其合金的国内外研究进展,对铼及其合金的特性进行了详细介绍,且在高科技技术中的应用及其制备技术进行了综述,并对制备技术的特点进行了对比分析,重点介绍了电化学沉积技术制备铼合金的可行性,以及其技术优势和电化学沉积铼-镍合金的组织结构。 【作者】吴王平；江鹏；华同曙； 【机构】常州大学机械工程学院； 【关键词】铼；合金；难熔金属； 【参考文献】 [1]罗可.数据库中数据挖掘理论方法 […]