【摘要】化学气相沉积(Chemialvapordeposition,CVD)是制备高纯高致密钨零件及涂层的重要工艺。通过介绍采用CVD方法制备的纯钨材料的工艺与技术特点,并从CVD-W材料特性、产品种类,相关应用方向等方面阐述了CVD技术在钨材料制造中的发展情况,介绍了CVD-W在国防军工、核能、医疗等行业领域的应用,总结了CVD-W制备技术和材料的国内外现状,并指出了未来国内CVD技术在钨及难熔 […]

【摘要】摘要：现有钨钼分离工艺处理高钼含钨溶液存在W损大、除Mo不彻底、成本高和对环境污染严重等不足。本文针对此提出了一条从高钼含钨溶液中分离钨钼的清洁高效新工艺,即双氧水配合—TRPO/TBP混合萃取剂萃取分离钨钼新工艺,并成功完成了工业化试验。本研究针对钨酸铵溶液调酸制备双氧水配合溶液存在的困难,创新性的提出蒸发脱氨配合法和双极膜电渗析(BMED)配合法由高钼钨酸铵溶液制备用于双氧水配合萃取分 […]