【摘要】反应磁控溅射法制备薄膜是一个非平衡过程，工艺条件的调控可以改变轰击粒子的能量、反应活性、迁移能力等，使得薄膜在生长过程中会伴随着组元成分变化、晶粒取向演变、相转变以及微观组织结构变化等，进而影响其性能（如硬度、断裂韧性、附着力、摩擦磨损、光学、电学、磁学等）。在NaCl结构的二元氮化物（如TiN、CrN）薄膜生长中，提出了很多生长模式和机理，用来构建工艺条件和择优取向演变的关系，但是对相结 […]

【摘要】CrN涂层具有较高的硬度、优良的韧性和摩擦磨损以及热稳定性和抗高温氧化性等优点,在切削刀具、模具、航空航天、装饰等领域具有非常广泛的应用前景,目前制备CrN涂层的主要方法有电弧离子镀、普通直流磁控溅射。电弧离子镀具有高离化率沉积涂层硬度高以及膜基结合力好等优点,然而电弧温度过高容易产生大液滴导致涂层表面粗糙和光学性能差,并且当涂层沉积厚度增加时涂层内应力也相应的增加。而普通的直流磁控溅射沉 […]