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TaN和Ti_(1-x)Al_xN薄膜的微观结构、硬度和摩擦学性能的研究 03月22日

【摘要】反应磁控溅射法制备薄膜是一个非平衡过程,工艺条件的调控可以改变轰击粒子的能量、反应活性、迁移能力等,使得薄膜在生长过程中会伴随着组元成分变化、晶粒取向演变、相转变以及微观组织结构变化等,进而影响其性能(如硬度、断裂韧性、附着力、摩擦磨损、光学、电学、磁学等)。在NaCl结构的二元氮化物(如TiN、CrN)薄膜生长中,提出了很多生长模式和机理,用来构建工艺条件和择优取向演变的关系,但是对相结 […]