磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及性能研究

【摘要】采用磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法在高速钢表面制备了TiN薄膜,采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪,显微硬度计和划痕仪等方法研究了偏压和磁过滤电流对TiN薄膜的形貌、沉积速率、组织结构和力学性能的影响。结果表明:MFAIP-TiN薄膜膜层均匀,表面质量好,膜与基体结合紧密。随着偏压和磁过滤电流的增加,TiN的(111)晶面择优取向越来越弱,(311)和(222)晶面的择优取向逐渐增强。当偏压为-150V,磁过滤电流为4.5A时,表现出较大的沉积速率,最大的显微硬度测试值和最大的膜/基结合力。
【作者】张启沛；钟喜春；李春明；匡同春；郭燕伶；
【机构】华南理工大学材料科学与工程学院；广州番禺职业技术学院；
【关键词】磁过滤电弧离子镀技术；TiN薄膜；偏压；磁过滤电流；

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