【摘要】溶液工艺的光电器件具有工艺简单、可大规模生产、重复性好、环境稳定性好、可在柔性衬底上加工等优点。溶液法合成的NiO和ITO纳米晶晶体质量高、单分散性好,可用于溶液工艺制备的光电器件。本文主要研究内容如下：1.采用溶液法合成纯相、单分散性好的NiO纳米晶。通过在Ni(St)2的醇解和胺解的反应体系中加入LiSt,有效阻止了NiO纳米晶的还原,得到尺寸2-5nm的NiO纳米晶；LiSt在醇和油 […]