【摘要】等离子体增强化学气相沉积(Plasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,简称PECVD)技术制备光学薄膜有其独特的优点,通过控制薄膜制备工艺参数变化可以获得不同折射率的光学薄膜,且所制备的光学薄膜物理特性优良。研究PECVD技术制备光学薄膜的折射率控制技术,明确制造过程中光学薄膜折射率控制方法和精度,有助于采用PECVD技术制备渐变折射率等特种精密光学薄膜。 […]