首页

紫外光学线宽扫描测量装置的成像系统研究 07月06日

【摘要】现在随着半导体产业的快速发展,芯片和MEMS器件的尺寸已经从微米向100纳米甚至10纳米量级迈进。相应的,对这些芯片和器件的检测范围也进入到纳米量级。在计量领域中,对纳米量级几何结构的高分辨率测量属于关键尺寸检测(CDMeasurement),检测设备的准确与否对芯片晶体管以及微纳器件的性能及合格率起着关重要的作用。目前,在半导体及芯片制造中,光学显微成像方法由于高速和较高分辨率,常用于芯 […]